Kānana Maʻemaʻe Kiʻekiʻe no ka Hana ʻana i ka Semiconductor Ultra-Clean

Kānana Maʻemaʻe Kiʻekiʻe no ka Hana ʻana i ka Semiconductor Ultra-Clean

Wehewehe Pōkole:


  • Lama:HENGKO
  • Inoa Kānana:Nā Kānana Puʻupuʻu Maʻemaʻe Kiʻekiʻe a me nā Kānana Pono
  • Mea Hana:SS 316L
  • Ka nui o ke kahe ʻana:10 ~ 120 SLPM
  • Ka mahana hana kiʻekiʻe loa:400-500°C
  • Ka nui o ka wehe ʻana i nā ʻāpana:> 0.003 μm
  • Nā kikoʻī huahana

    Nā Lepili Huahana

    Wehewehena

    Kānana Kinoea Kahe Kiʻekiʻe - Hoʻolālā kūikawā ʻia no ka kānana kinoea hana maʻemaʻe loa i ka hana semiconductor. Hana ʻia me ka pololei mai ke kila kila 316L, hōʻike ia i kahi hoʻolālā media disk multi-column a i ʻole stacked e hōʻoia i ka pale haʻahaʻa ma nā kahe kahe kiʻekiʻe, me ka pololei o ka kānana e hiki ana i ka 0.003μm e hoʻokō ai i nā koi maʻemaʻe kiʻekiʻe loa. ʻO ke kūkulu ʻana o nā metala āpau e lilo ia i hopena kānana kūpono no nā wahi hoʻomehana wela kiʻekiʻe.

     

    Hiʻohiʻona Huahana

    ▶ʻO nā ʻōnaehana kila kila 316L āpau— Hōʻoia i ke kūpaʻa a me ke kūʻē ʻana i ka pala.
    ▶Ka nui o ke kahe ʻana, ke kū'ē haʻahaʻa— Hoʻonohonoho pono ʻia no ke kahe nui me ka pohō kaomi liʻiliʻi.
    ▶Ka Pono Paʻa ʻana o nā ʻĀpana Kiʻekiʻe Loa— Maikaʻi loa no ka mālama ʻana i nā kūlana maʻemaʻe loa.
    ▶Kūpaʻa i nā mahana kiʻekiʻe, ke kaomi, a me ka palaho— Kūpono no nā ʻano ʻino.
    ▶Hoʻohālikelike me nā Kinoea Kaʻina Hana like ʻole— He kūpono no nā hana ʻoihana like ʻole.
    ▶Kūpono no ka hana ʻana o ka lumi maʻemaʻe, ka hoʻāʻo ʻana, a me ka hoʻopili ʻana— He kūpono no ka hoʻohana ʻana i nā wahi i kāohi ʻia.
    ▶Hoʻāʻo Kūpono 100%— Hoʻāʻo piha ʻia kēlā me kēia kānana no ka hōʻoia ʻana i ka maikaʻi.
    ▶Hoʻāʻo Leaka Helium 100%— Ua hōʻoia ʻia ma o ka hoʻāʻo ʻana i ka leaka helium e hōʻoia i ka hilinaʻi i nā noi koʻikoʻi.

     

    Nā kānana nui a me nā kānana pono kiʻekiʻe OEM no ke kūʻai aku

     

    Pepa ʻikepili

    Nā Palena ʻenehana

    Palena Nā kikoʻī
    Mea Hana Kānana Pauka kila kila 316L i hoʻoheheʻe ʻia
    Nā Mea Hale 316L kila kila
    Kaomi Komo Loa 207 pā
    Kaomi ʻokoʻa hana kiʻekiʻe loa 5.2 pā
    Ka helu o ka hoʻokahe ʻana o ka Helium 2 x 10⁻¹⁰ cc/min
    Ka helu o ka hoʻāʻo ʻana i ka Helium 1 x 10⁻¹⁰ cc/min
    Ka mālama ʻana i ka ʻili  
    ʻIli waho Ra < 1.6 μm
    ʻIli Kūloko Ra < 0.2 μm
    Mahana Hana Loa  
    Kinoea Inert 400-500℃
    Kinoea ʻAiʻino a me ka Reactive 50℃
    Ka Pono o ka Paʻa ʻana o nā ʻĀpana ≥99.9999999% (9LRV) @ 30 slpm
    Ka Hoʻomaʻemaʻe ʻana i lalo o ke Kai ≤0.03 mau ʻāpana/lita @ > 0.01 μm, 30 slpm
    Ka nui o ka paʻa ʻana o nā ʻāpana ≥0.003 μm

     

    Ka nui

    Nā kānana maʻemaʻe kiʻekiʻe a me nā kānana pono OEM Size

    Eia ka helu ʻāpana hiki iā ʻoe ke kauoha a me nā kikoʻī nui:

    Hoʻohālike Huahana Mea Hana Kānana Ka Pololei o ke Kānana (μm) ʻAno Hoʻohui
    Z01B-00647 316L kila kila 10~0.003 1/4”
    Z01B-00648 316L kila kila 10~0.003 1/2”
    Z01B-00649 316L kila kila 10~0.003 1/8”
    Z01B-00650 316L kila kila 10~0.003 1”
    Hiki ke hoʻopilikino ʻia 316L kila kila 10~0.003 E like me ka mea e pono ai

     

    Nā Hoʻohana Maʻamau

    kekahi mau hoʻohana maʻamau oNā Kānana Puʻupuʻu Maʻemaʻe Kiʻekiʻe a me nā Kānana Ponoa meNā Kānana Kahawai Kahe Kinoea ma ka Gas Pad:

    1. Hana ʻana i ka Semiconductor

    *Hōʻoia i ka lako kinoea maʻemaʻe loa no ka hana ʻana o ka wafer, etching, a me nā kaʻina hana hoʻokaʻawale vapor kemikala (CVD).
    * Mālama i ka maʻemaʻe kiʻekiʻe i nā ʻōnaehana hoʻolaha kinoea nui no ka naikokene, argon, a me nā kinoea lawe ʻē aʻe.

    2. Hana Hana Lapaʻau

    *Hāʻawi i ke kinoea sterile a ʻaʻohe ʻāpana no nā wahi hana koʻikoʻi.
    * Kākoʻo i ka kānana maʻemaʻe kiʻekiʻe no nā lumi maʻemaʻe a me nā wahi i kāohi ʻia e mālama i ka pono o ka huahana.

    3. Nā ʻōnaehana kinoea hoʻokolohua

    *Hoʻohana ʻia i nā hoʻonohonoho lab e hoʻomaʻemaʻe i nā kahawai kinoea i nā lako hana analytical e like me ke kinoea chromatography a me ka mass spectrometry.
    * Hōʻoia i nā kinoea maʻemaʻe kiʻekiʻe no nā noiʻi a me nā hoʻāʻo ʻana, e pale ana i nā mea hana koʻikoʻi.

    4. Ka Hana ʻAna i ka Meaʻai a me ka Mea Inu

    * Kānana i ka CO₂ a me nā kinoea ʻē aʻe i hoʻohana ʻia i ka carbonation, ka hoʻopili ʻana, a me ka mālama ʻana, e mālama ana i ka palekana a me ka maikaʻi o ka meaʻai.
    *Hōʻoia i ka lako kinoea ʻaʻohe haumia i loko o nā hale hana hana, ʻoi aku hoʻi no nā pono hana kinoea nui.

    5. ʻOihana ʻaila a me ke kinoea

    * Hoʻomaʻemaʻe i nā kahawai kinoea kūlohelohe i loko o ka kānana ʻana o ka pad kinoea, e wehe ana i nā mea haumia ma mua o ka mālama ʻana a i ʻole ka lawe ʻana.
    * Mālama i nā lako hana ma hope o ka wai ma ka wehe ʻana i nā particulate, ka makū, a me nā mea haumia i loko o nā ʻōnaehana kahe kinoea kiʻekiʻe.

    6. Hana Kemika

    * Kānana i nā kinoea pono e like me ka naikokene a me ke argon i hoʻohana ʻia i ka hana kemika a me nā hopena.
    *Mālama i ka maʻemaʻe o ke kinoea e pale ai i ka haumia a me nā kūlike ʻole o ka hopena.

    7. Aerospace a me ka pale kaua

    *Hāʻawi i nā kinoea maʻemaʻe kiʻekiʻe i nā wahi hana a me nā hoʻāʻo ʻana no nā mea a me nā ʻāpana aerospace.
    *Hōʻoia i ka maʻemaʻe kinoea kūlike i nā wahi i kāohi ʻia no ka hōʻuluʻulu ʻana o nā mokulele a me nā lako pale.

    8. Hana Ikehu (Nā Hale Hana Mana)

    * Kānana i nā kinoea kaomi kiʻekiʻe no ka hoʻomaʻalili ʻana a me nā hana kaʻina hana, ʻoiai hoʻi i nā hoʻonohonoho wela kiʻekiʻe.
    * Hoʻonui i ka pono a hoʻemi i ka ʻaʻahu o nā lako ma ka pale ʻana i ka haumia i loko o nā ʻōnaehana hoʻoluʻu kinoea a me ke kahe ʻana.

    ʻO kēia mau fHe mea nui nā kānana i kekahi noi e pono ai ke kahe kinoea maʻemaʻe a kūlike, e hoʻomaikaʻi ana i ka palekana o nā lako,

    ka pono o ke kaʻina hana, a me ka maikaʻi o ka huahana hope loa ma nā ʻoihana.

     

    Nā Kānana Puka a me nā Kānana Pono Maʻemaʻe Kiʻekiʻe no ka ʻOihana Semiconductor

     

    E hoʻouna mai i kāu leka iā mākou:

    E kākau i kāu leka ma aneʻi a hoʻouna mai iā mākou


  • Ma mua:
  • Aʻe:

  • Nā Huahana Pili